Entwicklung von Technologien und Anlagenkomponenten zur Laserpulsabscheidung (PLD) von homogenen partikulatfreien Schichten und Schichtsystemen unter Einsatz von Piko- und Femtosekunden-Lasern (PIKOFEMTO-PLD) Drittmittelprojekt uri icon

Abstract

  • Das Projekt zielt auf die Entwicklung neuartiger Technologien und Anlagenkomponenten für das PLD-Verfahren und dessen Einsatz für die Erzeugung von dünnen Schichten und Multischichtsystemen in der Mikroelektronik und für den Verschleißschutz. Insbesondere sollen der Einsatz von ultrakurzen Laserpulsen mit Pulsdauern im ps- und fs-Bereich für die Erzeugung der schichtbildenden Teilchen und das Herausfiltern der sogenannten Partikulate bzw. droplets aus dem Teilchenstrom mittels geeigneter Magnetfelder mit dem Ziel der Erzeugung vollkommen partikulatfreier Schichten umfassend untersucht und bis zur industriellen Reife weiterentwickelt werden.

Laufzeit

  • Dezember 1, 2014 - November 30, 2016

Projektnummer

  • 8231015